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Einkristallines Siliziumkarbid ist ein transparenter, äußerst harter und temperaturunempfindlicher Halbleiterwerkstoff der auf Grund seiner außergewöhnlichen elektrischen Eigenschaften die Herstellung neuartiger, äußerst energieeffizienter elektrischer Bauteile ermöglicht.

Siliziumkarbid-Wafer sind mit hoher Präzision gearbeitete Scheiben mit einer Dicke von 350 Mikrometern (etwa 1/3 Millimeter) und einem Durchmesser von typischerweise 150 Millimetern. Diese Wafer müssen eine äußerst anspruchsvolle, vom Kunden detailliert vorgegebene Spezifikation erfüllen.

Mit unseren genauestens überwachten Hightech Fertigungsprozessen decken wir alle Schritte zur Herstellung von hochwertigen Siliziumkarbid-Wafern ab:

  • Eigene Herstellung der Schlüssel-Rohstoffe für unsere Kristalle
  • Hochtemperatur-Kristallzüchtung aus der Gasphase
  • Präzise mechanische Bearbeitung von Kristallen und Wafern
  • Halbleiter-gerechte Reinigung und finale Qualitätskontrolle im Reinraum

Wafer der Standard-Qualität werden für die industrielle Weiterverarbeitung, in der Regel durch die hier führenden Halbleiterkonzernen, angeboten. Sogenannte Engineering-Grade Wafer sind die preisgünstigere Alternative für die hierauf spezialisierte Forschung und Entwicklung.

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Kontakt

SiCrystal GmbH

Thurn-und-Taxis-Straße 20
90411 Nürnberg
Deutschland

Telefon +49 (0) 911 / 8177599 - 0

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info@sicrystal.de (allgemeine Anfragen)

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